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EMS150 離子濺射儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市帝國科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/1/31 9:43:04
  • 訪問次數(shù)276
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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公司介紹
帝國科技隸屬于蔚柔(上海)電子科技有限公司,多年來深耕于大中華地區(qū)通用科研以及產(chǎn)線設(shè)備,與國內(nèi)外研究機構(gòu)密切合作。
我們的專業(yè)團隊多由畢業(yè)于諸如劍橋大學(xué)、帝國理工學(xué)院、清華大學(xué)等國內(nèi)外高校的碩士、博士組成,具有深厚的技術(shù)背景和深厚的研發(fā)經(jīng)驗。如今憑借著杰出的團隊,帝國科技正孜孜不倦地為印刷電子行業(yè)的研究人員以及學(xué)者提供綜合解決方案。我們的解決方案涉及印刷電子制備過程中的各個環(huán)節(jié),包括材料供應(yīng)、預(yù)處理設(shè)備,制備系統(tǒng)和后處理設(shè)備。
我們堅持以客戶的需求為主導(dǎo),致力于為客戶提供智能的全套印刷電子解決方案。作為專業(yè)的印刷電子解決方案供應(yīng)商,我們不單單為客戶提供印刷電子硬件設(shè)備,我們還為客戶提供技術(shù)咨詢、方案設(shè)計以及可行性驗證等一站式技術(shù)服務(wù),精準(zhǔn)快捷地解決客戶需求。
期待我們的高質(zhì)量解決方案能夠助力該領(lǐng)域的創(chuàng)新和革命。

材料供應(yīng)
帝國科技正在與國內(nèi)外眾多優(yōu)秀的材料供應(yīng)商合作,為客戶提供的材料選擇。現(xiàn)在我司主要提供的材料主要包括:PI, PET, PDMS, PEN, ITO-PEN等印刷電子常用基底材料以及各種常用的印刷墨水、漿料等。

預(yù)處理
樣品制備過程中,基底表面的潔凈程度、親疏水性等性能對最終的打印效果起到了至關(guān)重要的作用。帝國科技和國外廠商合作,為客戶提供必要的印刷電子樣品預(yù)處理技術(shù),如樣品表面清洗和表面改性等。

制備系統(tǒng)
客戶可以從我們這里找到所有可能的制造技術(shù),包括狹縫涂布、刮涂、點膠、壓電噴墨打印、熱噴墨打印、絲網(wǎng)印刷等。

后處理
打印樣品能否達到預(yù)期效果很大一部分取決于打印材料是否使用合適的固化工藝。帝國科技為客戶提供了全套的打印樣品后處理工藝,包括傳統(tǒng)的加熱臺固化和UV固化, 以及的NIR固化和光子燒結(jié)。

產(chǎn)品業(yè)務(wù)
EMS150/300是一款多功能緊湊型鍍膜系統(tǒng)
EMS150 離子濺射儀 產(chǎn)品信息

EMS 150/300是一款多功能緊湊型鍍膜系統(tǒng), 對于SEM, FESEM,TEM樣品制備及其它鍍膜應(yīng)用非常理想, 直徑為165mm/300mm的腔室可容納多種需要鍍導(dǎo)電膜的樣品, 尤其在配套電鏡應(yīng)用中提高成像質(zhì)量提供6個版本的儀器:
EMS150R S Plus – 噴金儀/離子濺射儀(真空噴鍍非氧化型金屬,  Au, Pt, Pd等)
EMS150R E Plus – 噴碳儀/碳蒸鍍儀(真空噴鍍碳膜, 特別適用于EDS,EBSD)
EMS150R ES Plus–真空鍍膜儀( 集150R S和150R E功能于一體, 結(jié)構(gòu)緊湊) 
EMS150T S Plus– 高真空離子濺射儀(分子泵超高真空, 多靶材,  Cr, W, Cu, Pt等) 
EMS150T E Plus– 高真空碳蒸鍍儀(分子泵超高真空適用于TEM/Cs-TEM使用) 
EMS150T ES Plus–高真空鍍膜儀( 集150T S和150T E功能于一體, 結(jié)構(gòu)緊湊) 
EMS300R T–超大樣品室多濺射頭鍍膜儀( 300mm超大樣品室,3個濺射頭保證大面積均勻鍍膜效果)
150R是一款多功能緊湊型機械泵抽真空鍍膜系統(tǒng),對于SEM樣品制備及其它鍍膜應(yīng)用非常理想。直徑為165mm/6.5”的腔室可容納多種需要鍍導(dǎo)電膜的樣品 – 尤其用于在SEM應(yīng)用中提高成像質(zhì)量。
150R S Plus
機械泵抽真空離子濺射鍍膜儀,適于給樣品鍍制不氧化金屬膜(即貴金屬膜),如金、銀、鉑和鈀。 
150R E Plus
機械泵抽真空蒸發(fā)鍍碳儀,使用碳絲或碳繩為SEM樣品鍍膜。 
150R ES Plus
集150R S Plus 和150R E Plus兩者的功能于一體,節(jié)省空間。這個雙重用途、結(jié)構(gòu)緊湊、機械泵抽真空的鍍膜系統(tǒng)標(biāo)配有濺射插入頭和碳絲蒸發(fā)插入頭 – 可提供無與倫比的多用途鍍膜。 
此外,輝光放電選項也是可用的(僅150R S Plus和150R ES Plus版本),它可實現(xiàn)樣品表面改性(如疏水表面改為親水表面)。 
快速簡便:快速、易更換的鍍膜插入頭,能在同一個緊湊設(shè)計中實現(xiàn)金屬濺射、碳蒸鍍和輝光放電三者之間的快速轉(zhuǎn)換。
采用全自動觸摸屏控制,可快速輸入數(shù)據(jù)。與鍍膜處理方法及鍍膜材料相適配的鍍膜參數(shù)方案可通過觸摸按鍵實現(xiàn)預(yù)設(shè)并儲存。自動放氣控制功能確保了濺射期間的真空狀態(tài),可提供良好的一致性和可重復(fù)性。 
易使用:智能識別系統(tǒng)可自動探測安裝了何種類型的鍍膜插入頭,以便立即運行相應(yīng)的鍍膜方案??纱鎯Χ鄠€用戶自定義的鍍膜方案 – 這對于需更改鍍膜參數(shù)實現(xiàn)不同應(yīng)用的多用戶實驗室非常理想。多種樣品臺組件適用于各種尺寸和類型的樣品;所有樣品臺都帶有快速、易更換及落入式設(shè)計的特點。 
功能強大、可重復(fù)鍍膜及高可靠性:可預(yù)編程的鍍膜參數(shù)及方案能確保一致且可重復(fù)的結(jié)果。需要沉積厚膜時,本系統(tǒng)提供長達60分鐘且無需破真空的濺射時間。設(shè)計的碳蒸鍍插入頭操作簡單,具有對蒸發(fā)電流參數(shù)的控制,確保了SEM應(yīng)用中一致的和可重復(fù)的碳沉積??蛇x的膜厚監(jiān)控附件用于可重復(fù)的膜厚控制。 
適配性強且用途廣:濺射、碳蒸鍍、輝光放電插入頭及多種可選件,使Q150R對于多用戶實驗室應(yīng)用非常理想??蔀R射一系列不氧化金屬,如金、銀、鉑和鈀。碳絲蒸鍍插入頭處理樣品速度非常快。也可選用碳棒蒸發(fā)。還可應(yīng)用于金屬薄膜研究及電極的應(yīng)用。
EMS 150R S Plus– 緊湊型機械泵濺射儀,適合非氧化金屬
EMS 150R E Plus– 緊湊型機械泵鍍碳儀
EMS 150R ES Plus–集成了離子濺射和碳蒸鍍兩種沉積功能的緊湊型機械泵鍍膜儀
新款改進
● 觸摸屏更換成便于操作的電容觸摸屏
固件更新,新版操作界面類似安卓系統(tǒng),便于客戶上手
● 新的彩色LED可視狀態(tài)指示燈
● USB接口可以用于固件更新,并可將鍍膜方案文件備份/復(fù)制到USB存儲設(shè)備
● 可以通過USB端口以.csv格式導(dǎo)出過程日志文件,以便統(tǒng)計分析
技術(shù)參數(shù)
儀器尺寸 585mm W x 470mm D x 410mm H (打開鍍膜頭時總高 650mm)
重量 28.4kg
包裝尺寸 725mm W x 660mm D x 680mm H (36.8kg)
工作腔 硼硅酸鹽玻璃,152mm ? (內(nèi)) x 127mm H
安全鐘罩 PET材質(zhì)
顯示 145mm 320 x 240 彩色圖形TFT (Thin Film Transistor)顯示
用戶界面 直觀全圖形界面,觸摸屏控制
濺射頭 標(biāo)配 57mm ?、0.1mm厚金靶(Q150R S,Q150R ES)
樣品臺 50mm ?旋轉(zhuǎn)樣品臺,帶6個15mm、10mm、6.5mm或1/8”釘形樣品座孔,旋轉(zhuǎn)速度8-20 rpm
真空
機械泵 Edwards RV3 50L/s雙程機械泵
真空測量 標(biāo)配Pirani規(guī)
極限真空 2 x 10-2mbar
工作真空 3 x 10-2 mbar與5 x 10-1mbar之間
操作過程
濺射 0-80mA,濺射時間60 min
碳蒸鍍 電流脈沖:碳繩,1-60 A;1.4mm ?碳棒,1-90 A
輝光放電 0-80mA,DC+及DC-模式
其它
工作氣體 Ar氣,99.999%,N2為排放氣體(選件)
電源 90-250V ~ 50/60 Hz 1400 VA
認證 CE
關(guān)鍵詞:離子濺射儀 貴金屬
15700106413
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