六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備的作用
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理的工藝是勻膠前襯底“增附”處理。在光刻中,通常會(huì)用到一些例如藍(lán)寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底,這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想,這會(huì)導(dǎo)致后續(xù)的光刻顯影環(huán)節(jié)出現(xiàn)“裂紋”甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善,這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備的性能
HMDS藥液低液位報(bào)警:
自動(dòng)吸取HMDS:
可自動(dòng)添加HMDS:
HMDS藥液泄漏報(bào)警:
HMDS氣體管路加熱系統(tǒng):
參數(shù)記錄功能:
溫度與程序互鎖功能:
容積大?。?50*350*350/450*450*450/600*600*600(mm)可定制
溫度范圍:RT+10-250℃
真空度:≤133pa(1torr)
控制系統(tǒng);人機(jī)界面+PLC
擱板層數(shù):2層
HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量
真空泵: 渦旋無(wú)油泵
不正確的六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理方法
如果液體的HMDS被直接旋涂在襯底上,HMDS層只能起到物理上的粘附層的作用,并不能改善粘附性;其次,HMDS層在前烘過程中釋放出氨,從襯底附近的進(jìn)入交聯(lián)的光刻膠層中,從而抑制顯影過程。