全數(shù)字化設備
維薩拉 K?PATENTS® 半導體行業(yè)用折光儀 PR-33-S 用于監(jiān)控工藝流程，可提供連續(xù)的以太網(wǎng)輸出信號。設計緊湊，直接串接在過程管路上。
滿量程下保持準確穩(wěn)定測量
折射率測量范圍為 nD 1.3200–1.5300，相當于 0-99%（重量百分比）。對于高濃度 HF，可選范圍為 nD 1.2600–1.4700。標稱準確度為 R.I.+ 0.0002，通常相當于 0.1%（重量百分比），例如，鹽酸。
測量顆粒、氣泡、紊流及 PPM 濃度級別的微量雜質(zhì)影響。
測量顆粒、氣泡、紊流及 PPM 濃度級別的微量雜質(zhì)影響。
易于維護
光學核心設計。
無漂移，無需重新校準。無需進行機械調(diào)節(jié)。
無漂移，無需重新校準。無需進行機械調(diào)節(jié)。
