材料分散機(jī),硅碳復(fù)合材料分散機(jī),多孔納米硅碳復(fù)合材料分散機(jī),是從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細(xì)的分散乳化,經(jīng)過高頻的循環(huán)往復(fù),最終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。
利用可聚合性單體和交聯(lián)劑作為硅的研磨介質(zhì),對納米硅表面進(jìn)行疏水化處理,然后加入炭黑及添加劑,通過高速剪切分散將納米硅研磨液分散在聚烯醇的水溶液中形成O/W型乳液,通過微懸浮聚合,得到硅/高分子復(fù)合微球,把納米硅固定在高分子微球內(nèi)部,然后進(jìn)行離心分離、干燥、高溫?zé)崽幚恚玫戒囯x子電池用硅碳復(fù)合負(fù)極材料
復(fù)合材料分散機(jī) 的分散效果 影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是最重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,切可公司在GRS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRX2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。
參數(shù)
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水"的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和最終產(chǎn)品的要求。
納米硅碳復(fù)合材料分散機(jī),多孔納米硅碳復(fù)合材料分散機(jī),硅碳復(fù)合材料分散機(jī)
型號 | 處理量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 進(jìn)出口尺寸 |
GRS2000/4 | 300-1000 | 9,000 | 51 | 4 | DN25/DN15 |
GRS2000/5 | 3,000 | 6,000 | 51 | 11 | DN40/DN32 |
GRS2000/10 | 8,000 | 4,200 | 51 | 22 | DN50/DN50 |
GRS2000/20 | 20,000 | 3,000 | 51 | 37 | DN80/DN65 |
GRS2000/30 | 40,000 | 1,500 | 51 | 55 | DN150/DN125 |
GRS2000/40 | 70,000 | 1,500 | 51 | 75 | DN150/DN125 |
GRS2000/50 | 125,000 | 1,100 | 51 | 110 | DN200/DN150 |