ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡-EVO 10,具備自動化工作流程的高清晰掃描電鏡
提高樣品的成像分辨率，提供更多表面細節(jié)信息
EVO 電鏡廣泛應用于材料和生命科學領域。
在低電壓下，借助電子束減速和高分辨背散射電子成像技術獲取出色的樣品形貌細節(jié)。您還可以在可變環(huán)境條件下實時觀察材料的相互作用，控制樣品
室環(huán)境并實現(xiàn)含水生物樣品的詳細分析。
借助自動化工作流程實現(xiàn)高效應用。EVO 無二的 X 射線幾何學設計能確保在分析工作條件下達到分辨率。
技術規(guī)格
設備主要部件及技術要求：
該項目的設備必須是全新設備且整體進口（包括所有零部件，元器件和附件等），滿足各自的技術指標和性能，其性能應達到水平，可靠性好，性能穩(wěn)定，控制精度高，使用、操作和維修方便，售后服務優(yōu)良，必須在河南地區(qū)常駐有售后工程師以方便后期維護。
1、基本要求
1.1 電子光學系統(tǒng)
1.1.1 發(fā)射源：鎢燈絲；
1.1.2 分辨率：高真空二次電子像 ≤3.0nm @30kV≤8.0nm @3kV低真空背散射電子像 ≤4.0nm（30kV）；
1.1.3 加速電壓范圍：200V－30kV，10V 步進連續(xù)可調；
1.1.4 放大倍數(shù)范圍不小于：7X－1,000,000X，連續(xù)可調；
*1.1.5 探針電流范圍：0.5 pA~5μA，連續(xù)可調；
*1.1.6 電子束控制模式不少于以下幾種控制模式：分辨率模式、分析模式、大視野模式、大景深模式和魚眼模式；
*1.1.7 分析工作距離不大于 8.5mm 且分析工作距離下的視野范圍不小于 6mm，普通模式下視野范圍不小于 20mm；
1.2 真空系統(tǒng)
1.2.1 抽真空系統(tǒng)：渦輪分子泵 + 機械泵，不需要冷卻水
1.2.2 樣品室真空度：優(yōu)于優(yōu)于 3 x 10-4 Pa
1.2.3 抽真空時間：≤3 分鐘
1.3 樣品室及樣品臺
1.3.1 樣品室內(nèi)部尺寸不小于 310mm（直徑）×220mm（高）；3
*1.3.2 可放置的樣品尺寸和承重：樣品直徑不小于 230mm，高度不小于 100mm，樣品臺承重不小于5kg；
1.3.3 配備探測器：高真空二次電子探測器，背散射電子探測器，樣品室紅外 CCD 攝像裝置
*1.3.4 配置五軸馬達驅動樣品臺：樣品臺馬達移動范圍：不小于 80mm（X 方向），100mm（Y 方向），35mm（Z 方向），-10°~ 90°（傾斜），360°（旋轉）
1.3.5 樣品臺類型：全電動 5 軸馬達驅動樣品臺，雙軸搖桿操作系統(tǒng)；
1.3.6 樣品臺具有接觸報警與自停功能;
*1.3.7 馬達臺重復精度不低于 2um；
1.4 圖像處理系統(tǒng)
1.4.1 配套計算機系統(tǒng)：不低于 CPU P4 3.0GHz，RAM 512Mb，硬盤 120Gb，軟盤驅動器 1.44Mb，光盤刻錄機，24″液晶顯示屏，鍵盤，鼠標，USB 接口
1.4.2 顯示圖像分辨率：不小于 1024×768 像素
*1.4.3 單幅圖像存儲圖像分辨率：不小于 32k×24k 像素
1.4.4 存儲圖像格式：TIFF、BMP 與 JPEG
1.5 控制系統(tǒng)
1.5.1 配置 Windows 操作系統(tǒng)
1.5.2 配置專業(yè)的電子顯微鏡控制軟件
1.5.3 自動功能：自動電子槍啟動，電子槍自動對中，自動偏壓調整，自動和手動聚焦，聚焦補償，動態(tài)聚焦，旋轉補償，自動消像散，圖像降噪處理。
1.5.4 圖像采集：像素平均、幀平均、幀積分、行平均、行積分；
1.5.5 顯示器：24″高對比度彩色平板顯示器；
1.5.6 顯示方式：全屏顯示、分屏顯示、灰度直方圖、輪廓方式、偽彩色；
1.5.7 圖像注釋與數(shù)據(jù)區(qū)：提供標準數(shù)據(jù)區(qū)和定制數(shù)據(jù)區(qū)，可在圖片上顯示各種電鏡參數(shù)和字符。
1.5.8 狀態(tài)菜單：顯示各種工作參數(shù)。
1.5.9 測量功能：可對圖像中的形貌進行點間距、角度、直徑等測量。
1.6 能譜儀系統(tǒng)
1.6.1 功能：用于材料的微區(qū)成分定性、定量分析。
1.6.2 配置電制冷能譜儀，能譜儀窗口面積不小于 30mm2，能量分辨率(600000CPS) Mn-Ka 優(yōu)于129eV；
1.6.3 元素分析范圍：Be4～CF98；
1.6.4 能譜儀處理單元與計算機采用分立式設計，單探測器輸出計數(shù)率優(yōu)于 600,000CPS，可處理計數(shù)率1,500,000CPS；4
1.6.5 可將電鏡圖像傳輸?shù)侥茏V儀的顯示器上，并以該圖為中心做微區(qū)分析，實現(xiàn)點、區(qū)域定性定量分析，以及線掃描和面分布功能；
1.6.6 系統(tǒng)配置專業(yè)能譜儀數(shù)據(jù)處理工作站；
1.7 離子濺射儀
1.7.1 玻璃處理室：直徑不小于 100 毫米，高度不小于 130 毫米；
1.7.2 試樣臺尺寸：直徑不小于 40 毫米可同時放 6 個樣品杯；
1.7.3 靶尺寸：直徑不小于 58 毫米；
1.7.4 真空系統(tǒng)：直聯(lián)旋片真空泵 1 升/秒；
1.7.5 真空檢測：皮氏計；
1.7.6 真空保護：20Pa 配有微量充氣閥調節(jié)工作真空；
1.7.7 工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣，配有氬氣專用進氣口和微量充氣調節(jié)；
1.7.8 配置：內(nèi)置一塊金鈀。
2 產(chǎn)品配置要求
為達到上述技術指標，投標產(chǎn)品應配置必要的硬、軟件。投標產(chǎn)品不低于以下配置：
2.1 掃描電子顯微鏡 1 套；
2.2 RS232 能譜儀智能通訊接口 1 套；
2.3 電制冷能譜儀 1 套；
2.4 空氣壓縮機 1 套；
2.5 樣品室內(nèi)全自動控制紅外 CCD 相機 1 套；
2.6 二次電子探測器 1 套，背散射電子探測器 1 套；
2.7 樣品束流檢測器或者束流檢測皮安表 1 套；
2.8 不間斷穩(wěn)壓電源 1 套；
2.9 碳導電雙面膠帶 2 卷和燈絲 1 盒（10 支）；
更簡單、更智能、整合性更高
的表面成像能力
您可以在低電壓下利用高分辨背散射電子探測器（HD BSD）實現(xiàn)具有清晰襯度的表面細節(jié)成像。針對電子束敏感樣品或表面形貌分析，電子束減速技術能夠提高分辨率及增強表面細節(jié)信息。成像過程中的漂移校正有助于進一步提高邊緣分辨率。EVO 系列可提供包含高性能 HD 束源在內(nèi)的三類電子束源技術，通過組合應用開創(chuàng)圖像質量全新標準。
智能化成像 – 性能高效
EVO 能夠提高制造和質量控制領域的工作效率。試想一下，將典型的工作流程從 400 多步操作簡化為 15 步，以三種不同的放大倍率在 9 個樣本上對感興趣的 4 個點進行成像。智能化系統(tǒng)能夠自動完成光路對中、調節(jié)放大倍率、聚焦和移動載物臺 – 一切都為最終的圖像采集，系統(tǒng)會根據(jù)所選的樣品設置成像條件。通過易于操作的click-stop 按鈕控制鏡筒中間的光闌孔，從而獲得可靠且重復性高的檢測結果。
環(huán)境電子顯微鏡技術
EVO LS 可在不同溫度、壓力和濕度條件下觀察生命科學樣品及材料樣品的納米級信息。使用EVO LS 能獲得細胞、植物和生物在自然水合狀態(tài)下的細節(jié)信息。分析材料性能，如耐蝕性、耐熱性及涂鍍性能。EVO LS 型環(huán)境掃描電鏡能在高達 3000 Pa 的壓力下獲取高品質圖像，輕松完成含水樣品的成像，同時利用計算機控制環(huán)境條件，以避免出現(xiàn)脫水假象。
