產(chǎn)品用途
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
PECVD系統(tǒng)配置；
1.1200度開啟式滑動(dòng)單溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)（單獨(dú)購買）
產(chǎn)品特性;
電源范圍廣；溫度范圍寬；濺射區(qū)域長(zhǎng)；整管可調(diào)；精致小巧，性價(jià)比高，可實(shí)現(xiàn)快速升降溫，是實(shí)驗(yàn)室生長(zhǎng)薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等的理想選擇，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。
系統(tǒng)名稱 | 集成型PECVD系統(tǒng) | 1200℃小型PECVD系統(tǒng) |
系統(tǒng)型號(hào) | PECVD-12IH-500A | PECVD-12IH-4Z/G |
控制方式 | 液晶屏微PLC控制系統(tǒng) | 手動(dòng) |
溫度 | 1200℃ | |
加熱區(qū)長(zhǎng)度 | 200mm | |
恒溫區(qū)長(zhǎng)度 | 100mm | |
溫區(qū) | 單溫區(qū) | |
石英管管徑 | Φ60mm | Φ50mm |
額定功率 | 1.2Kw | 2Kw |
額定電壓 | 220V | |
滑動(dòng)方式及距離 | 自動(dòng)滑動(dòng);200mm | 手動(dòng)滑動(dòng);200mm |
溫度控制 | 30段程序控溫 | 50段程序控溫 |
控制精度 | ±1℃ | |
爐管工作溫度 | ＜1200℃ | |
氣路法蘭 | 采用多環(huán)密封技術(shù)卡箍快速連接 | |
排風(fēng)冷卻裝置 | *的空氣隔熱技術(shù)，結(jié)合熱感應(yīng)技術(shù)，當(dāng)爐體表面溫升到50℃時(shí)， 排溫風(fēng)扇將自動(dòng)啟動(dòng)，使?fàn)t體表面快速降溫。 | |
氣體控制方式 | 質(zhì)量流量計(jì)（按鍵式） | |
氣路數(shù)量 | 2路（2-4路） | 4路（可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量） |
流量范圍 | 0-500sccm(標(biāo)準(zhǔn)毫升/分，可選配）氮?dú)鈽?biāo)定 | |
精度 | ±1%F.S | |
響應(yīng)時(shí)間 | 1sec | |
工作溫度（流量計(jì)） | 20-120℃ | |
工作壓力 | 進(jìn)氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力） | |
進(jìn)氣方式 | 采用防倒流設(shè)計(jì) | |
規(guī)格 | 中真空（集成型請(qǐng)單獨(dú)購買） | |
系統(tǒng)真空范圍 | 10Pa-100Pa | |
真空泵 | 雙級(jí)機(jī)械泵理論極限真空度3x10-1Pa，抽氣速率4L/S（選配：其他抽速真空泵）,出氣口配有油污過濾器，額定電壓220V，功率0.55Kw | |
信號(hào)頻率 | 13.56MHz±0.005% | |
功率輸出范圍 | 0W-500W | 0W-100W |
反射功率 | 350W | 30W |
射頻輸出接口 | 50Ω，N-type,temale | |
功率穩(wěn)定度 | ±0.1% | |
諧波分量 | ≤-50dbc | |
供電電壓 | 單相交流（187V-253V)頻率50/60HZ | |
整機(jī)功率 | ≥70% | |
屏幕顯示 | 正方向功率，匹配器電容位置，偏置電壓值 | |
爐體外形尺寸 | 290×350×340mm | 290×350×495mm |
系統(tǒng)外形尺寸 | 420×1440×1100mm | 530×2310×750mm |
系統(tǒng)總重量 | 270Kg | |
