GD90輝光放電質(zhì)譜儀
Autoconcept GD90是一個專為高精度元素分析所設(shè)計的高分辨輝光放電質(zhì)譜儀。此輝光放電質(zhì)譜儀(GDMS)提供了固體金屬與緣體的直接分析檢測。它具有非常寬的元素覆蓋范圍,可得到超過70種元素的有效數(shù)據(jù),靈敏度高,輕元素重元素均可。
GDMS技術(shù)使原子化(碎片化)過程與離子化過程分開進行,故而可容易的對ppb至ppt級別的痕量雜質(zhì)進行測量。此法還使得GDMS技術(shù)擁有 小的基體效應(yīng)且無須特定參照材料。它可對金屬與合金進行全掃描分析,可對半導(dǎo)體進行整體的測量分析,可對多層結(jié)構(gòu)與鍍層進行深度剖析。是包括金屬、合金、半導(dǎo)體以及緣體(須配RF源)等高純材料的生產(chǎn)與質(zhì)量控制的理想工具。
GD90輝光放電質(zhì)譜儀的主要特性:
·高分辨率,特別是對于有干擾離子存在的測定而言十分重要。
·廣泛的元素涵蓋范圍,軟件中包括70個元素相關(guān)的干擾離子數(shù)據(jù)。
·由于原子化和離子化過程發(fā)生在不同區(qū)域,帶來可忽略的基體效應(yīng)。
·低至亞ppb級的定量數(shù)據(jù)。
·具有深度剖面同位素比值分析能力。
· 少的樣品制備過程。
應(yīng)用領(lǐng)域:
輝光放電質(zhì)譜儀--AUTOCONCEPT GD90
半導(dǎo)體:
幾乎所有的電子、光學與光電設(shè)備都需要高純度半導(dǎo)體。此類半導(dǎo)體的電學性質(zhì)依賴于其中的雜質(zhì)成分。此類材料只有達到低的雜質(zhì)水平才能保證終端產(chǎn)品(例如微處理器與微型器件)的性能。
GDMS有助于半導(dǎo)體的整體調(diào)查分析,可對雜質(zhì)進行定量鑒定,可達到痕量與超痕量水平。
核能:
在核技術(shù)與核研究中,科研人員對同位素比例進行精準的測量有著極大的興趣。被廣泛接受的方法是熱電離質(zhì)譜(TIMS)。在此方法中,樣品必須被溶解,需要在分析前對感興趣的分析物進行化學分離。
GDMS同樣被用于含核材料樣品的同位素鑒定。通過對比,GDMS被證明是在精準度要求的前提下對B,Li以及U同位素豐度鑒定的優(yōu)勢性技術(shù)。GDMS有著減少樣品制備過程的優(yōu)勢。
高純度金屬:
在金屬與合金的大批量生產(chǎn)過程中,痕量雜質(zhì)的總量不易控制。但為了控制其力學、化學、電學與其他高級性質(zhì),受控添加痕量元素以及提純過程都是減少材料雜質(zhì)含量所需要的。
GDMS有助于成品中雜質(zhì)的檢出與鑒定,以確保由此金屬制成的系統(tǒng)的質(zhì)量與性能。
合金
合金與超合金試生產(chǎn)高性能機械-例如渦輪機-的關(guān)鍵材料。由于此類機械通常在高溫高壓下運行,即使痕量元素成分發(fā)生輕微變化都有可能導(dǎo)致災(zāi)難性后果。
GDMS在鑒定產(chǎn)品的元素組成上非常理想,用以保證機械系統(tǒng)的 優(yōu)化性能。
輝光放電質(zhì)譜法作為一種固體樣品的直接分析方法,被認為是目前為止*的同時具有 廣泛的分析元素范圍和足夠靈敏度的元素分析方法,已成為固體材料多元素分析尤其是高純材料分析的強有力的工具。直接對固體進行分析避免了將固體轉(zhuǎn)化成溶液時因在溶解、稀釋等過程中造成的玷污和靈敏度降低,而且該方法對樣品的分析面積大,所得數(shù)據(jù)結(jié)果有好的代表性。
優(yōu)勢分析應(yīng)用領(lǐng)域:
金屬及合金材料
包括高純金屬,濺射靶材,稀貴金屬,超級合金等材料的痕量雜質(zhì)的半定量和定量分析,同時可分析C、N、O等輕元素。
半導(dǎo)體材料
包括硅片,CdTe,GaAs及其他多種高純電子材料的雜質(zhì)分析。
無機非金屬材料
包括陶瓷粉末,玻璃,稀土氧化物等材料分析。
薄層分析,深度分布剖面分析等