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Nicomp 380 ZLS激光粒度電位檢測(cè)儀 Zeta電位儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海奧法美嘉生物科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間2022/10/1 9:13:45
  • 訪問(wèn)次數(shù)540
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奧法美嘉(Alpharmaca)科技有限公司于2010年在上海成立,立足于醫(yī)藥行業(yè),耕耘于納米科學(xué)材料,化工,半導(dǎo)體,環(huán)境科學(xué),汽車,過(guò)濾,涂料,墨水,油品等行業(yè),以專業(yè)的納米微米檢測(cè)技術(shù),“致力粒度分析,專注客戶體驗(yàn)”。這已經(jīng)成為奧法美嘉團(tuán)隊(duì)的信條。

借助于20多年的行業(yè)積累和技術(shù)儲(chǔ)備,奧法美嘉將世界上處于技術(shù)地位的粒度儀——美國(guó)PSS粒度儀公司的激光粒度儀產(chǎn)品引入到中國(guó)市場(chǎng),秉承著“傳授粒度真知”“普及粒度知識(shí)”的理念,伴隨著納米知識(shí)的普及,伴隨著中國(guó)經(jīng)濟(jì)向制造業(yè)的轉(zhuǎn)型,經(jīng)過(guò)短短幾年,奧法美嘉科技有限公司作為美國(guó)PSS粒度儀公司在中國(guó)的代表,從*中心的建立運(yùn)營(yíng),到如今覆蓋全中國(guó)銷售網(wǎng)絡(luò)和售后服務(wù)網(wǎng)絡(luò),不僅用真誠(chéng)的態(tài)度,而且用務(wù)實(shí)的專業(yè)知識(shí),獲得了廣大客戶的*。

Particle Solutions srl(意大利PSI均質(zhì)機(jī)公司)位于意大利海濱工業(yè)城鎮(zhèn)拉齊奧地區(qū),毗鄰歷史悠久的古城羅馬,由從事粒度相關(guān)領(lǐng)域內(nèi)杰出的歐洲科學(xué)家以及工程師所組成的團(tuán)隊(duì)發(fā)起創(chuàng)立。公司團(tuán)隊(duì)擁有25年粒度檢測(cè)知識(shí)積累,15年儀器工業(yè)設(shè)計(jì)經(jīng)驗(yàn),15年高壓均質(zhì)技術(shù)經(jīng)驗(yàn)及應(yīng)用研究。

通過(guò)深入發(fā)掘客戶需求和應(yīng)用難點(diǎn),PSI團(tuán)隊(duì)研發(fā)出了新型高壓微射流均質(zhì)機(jī),其穩(wěn)定可控的均質(zhì)壓力及高剪切力保證了工藝可線性放大且可保證大產(chǎn)量需求,低噪音的設(shè)計(jì)理念可大大減緩傳統(tǒng)工藝中的高噪音對(duì)于操作人員的不利影響,小巧緊湊的機(jī)身設(shè)計(jì)可以完美適應(yīng)從實(shí)驗(yàn)室研發(fā)到中試及大生產(chǎn)的各種工作場(chǎng)景。自組建以來(lái),團(tuán)隊(duì)累積了大量醫(yī)藥,生物,半導(dǎo)體,新材料等行業(yè)的相關(guān)應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)。依托于醫(yī)藥行業(yè)*的GMP管理理念,PSI均質(zhì)機(jī)的現(xiàn)代化數(shù)字屏幕,符合GMP法規(guī)的數(shù)據(jù)溯源系統(tǒng)將會(huì)成為未來(lái)制造業(yè)的有力保障。

現(xiàn)奧法美嘉綜合PSS粒度儀和PSI均質(zhì)機(jī),為中國(guó)制造業(yè)提供納米技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)從生產(chǎn)研發(fā)設(shè)備到檢測(cè)儀器的整套解決方案。

分析儀,檢測(cè)儀
簡(jiǎn)要描述:Nicomp 380 ZLS激光粒度電位檢測(cè)儀采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測(cè)分析顆粒系的粒度及粒度分布,粒徑檢測(cè)范圍0.3nm – 10m。粒度分析復(fù)合采用Gaussian單峰算法和擁有技術(shù)的NiComp多峰算法,對(duì)于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢(shì),其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì),可靈活方便地?cái)U(kuò)展Zeta電位等其它功能。
Nicomp 380 ZLS激光粒度電位檢測(cè)儀 Zeta電位儀 產(chǎn)品信息
詳情介紹

Nicomp 380 ZLS激光粒度電位檢測(cè)儀

 

基本概述

Nicomp 380 DLS是納米粒徑分析儀器,采用現(xiàn)在*的動(dòng)態(tài)光散射原理,利用的Nicomp多峰算法可以很準(zhǔn)確的分析比較復(fù)雜多組分混合樣品。為實(shí)驗(yàn)室的研究提供的分析技術(shù)。 測(cè)試范圍:0.3 nm – 10μm

 

產(chǎn)品介紹

 Nicomp 380 DLS 采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測(cè)分析顆粒系的粒度及粒度分布,粒徑檢測(cè)范圍 0.3 nm- 10μm。粒度分析復(fù)合采用 Gaussian 單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法,對(duì)于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢(shì),其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。

 

 

激光粒度電位檢測(cè)儀工作原理:

動(dòng)態(tài)光散射法(DLS),有時(shí)稱為準(zhǔn)彈性光散射法(QELS),是一種成熟的非侵入技術(shù),可測(cè)量亞微細(xì)顆粒范圍內(nèi)的分子與顆粒的粒度及粒度分布,使用技術(shù),粒度可小于1nm。 動(dòng)態(tài)光散射法的典型應(yīng)用包括已分散或溶于液體的顆粒、乳劑或分子表征。 懸浮在溶液中的顆粒的布朗運(yùn)動(dòng),造成散射光光強(qiáng)的波動(dòng)。 分析光強(qiáng)的波動(dòng)得到顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)速度,再通過(guò)斯托克斯-愛(ài)因斯坦方程得到顆粒的粒度。

 

 儀器參數(shù)

 

粒徑測(cè)量范圍

粒度分析:0.3 nm - 10 μm

分析方法

粒度分析:動(dòng)態(tài)光散射,Gaussian 單峰算法和 NiComp 無(wú)約束自由擬合多峰算法

pH值范圍

2 - 12

溫度范圍

0 - 90 

檢測(cè)角度(可選)

粒度分析:90° 多角度(10°- 175°,可選配)

高濃度樣品背散射

175°背散射

可用溶劑

水和絕大多數(shù)有機(jī)溶劑

樣品池

4 mL(標(biāo)準(zhǔn),石英玻璃或有機(jī)玻璃);

500μL(高透光率微量樣品池)

分析軟件

Windows 運(yùn)行環(huán)境,符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件

電壓

220 – 240 VAC,50Hz 100 – 120 VAC60Hz

外形尺寸

56 cm * 41 cm * 24cm

重量

26kg(與配置有關(guān))

 配件:

大功率激光二極管

PSS使用一系列大功率激光二極管來(lái)滿足更多更苛刻的要求。使用大功率激光照射,以便從小粒子出貨的足夠的入射光。

15mW, 35mW, 50mW, 100mW –波長(zhǎng)為635nm 紅色二極管。

20 mW 50 mW 和 100 mW 波長(zhǎng) 514.4nm綠色二極管。

 

雪崩光電二極管檢測(cè)器(APD Detector)

提供比普通光電倍增管(PMT)高20的靈敏度。

Zeta 電位模塊

Zeta電位是確定交替系統(tǒng)穩(wěn)定性的重要參數(shù),決定粒子之間靜電排斥力大小,從未影響粒子的聚集作用及分散系的穩(wěn)定。該模塊使用電泳光散射(ELS技術(shù),通過(guò)測(cè)量帶點(diǎn)粒子在外加電場(chǎng)中的移動(dòng)速度,即電泳遷移率、推算出Zeta電位,實(shí)現(xiàn)了粒子的粒徑與Zeta電位,實(shí)現(xiàn)了粒子的粒徑與Zeta電位測(cè)定的同機(jī)操作。

 

自動(dòng)稀釋系統(tǒng)模塊

初始濃度較高的樣本自動(dòng)稀釋至可檢測(cè)的濃度,可稀釋初始固含量為50%原始樣品,本模塊收保護(hù),其可免除人工稀釋樣品帶來(lái)的外界環(huán)境的干擾和數(shù)據(jù)上的誤差,此技術(shù)被用于批量進(jìn)樣和在線檢測(cè)的過(guò)程中。

 

多角度檢測(cè)系統(tǒng)模塊

提供多角度的檢測(cè)能力。使用高精度步進(jìn)電機(jī)和針孔光纖技術(shù)可對(duì)散射光角度進(jìn)行調(diào)整,可為微粒粒徑分布提供高分辨率多角度檢測(cè)。對(duì)高濃度樣品(≤40%以及大粒子多分散系的粒徑提供了提供15至175度之間不同角度上散射光的采集和檢測(cè)。

 

自動(dòng)進(jìn)樣器

批量自動(dòng)進(jìn)樣器能實(shí)現(xiàn)zui多76個(gè)連續(xù)樣本的分析無(wú)需操作人員的干預(yù)。因此它是一個(gè)非常好的質(zhì)量控制工具,能增大樣品的處理量。大大節(jié)省了寶貴的時(shí)間。

 

自動(dòng)滴定模塊

樣品的濃度及PH值Zeta電位的重要參數(shù),搭配瑞士萬(wàn)通的滴定儀進(jìn)行檢測(cè),真正實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)滴定,自動(dòng)調(diào)節(jié)PH值,自動(dòng)檢測(cè)Zeta電位值。免除外界的干擾和數(shù)據(jù)上的誤差,精確分析出樣品Zeta電位的趨勢(shì)。

 

 

 應(yīng)用領(lǐng)域:

適用于檢測(cè)懸浮在水相和有機(jī)相的顆粒物。

 

1)磨料

       磨料既有天然的也有合成的,用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實(shí)現(xiàn)對(duì)硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。

       2化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)

       化學(xué)機(jī)械拋光是半導(dǎo)體制造加工過(guò)程中的重要步驟。化學(xué)機(jī)械拋光液是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過(guò)程很大程度上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計(jì),對(duì)晶片質(zhì)量至關(guān)重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機(jī)械拋光加工過(guò)程的順利進(jìn)行。

      3陶瓷

       陶瓷在工業(yè)中的應(yīng)用非常廣泛,從磚瓦到生物科研材料及半導(dǎo)體領(lǐng)域。在生產(chǎn)加工過(guò)程中監(jiān)測(cè)陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制zui終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。

       4粘土

       粘土是一種含水細(xì)小顆粒礦物質(zhì)天然材料。粉砂與粘土類似,但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級(jí)和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。

       5涂料

       涂料種類繁多,用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能。

       6污染監(jiān)測(cè)

       粒度檢測(cè)分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測(cè)方面起著重要作用,產(chǎn)品的污染對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量影響巨大。絕大多數(shù)行業(yè)都有相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)程或規(guī)范,必須嚴(yán)格遵守和執(zhí)行,以保證產(chǎn)品滿足質(zhì)量要求。

       7化妝品

       無(wú)論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑,它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關(guān)。化妝品的顆粒大小會(huì)影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時(shí)才能被皮膚良好吸收,而止汗劑的粒度只有足夠大時(shí)才能阻塞毛孔起到止汗的作用。

      8乳劑

       乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系,通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型,一種是水分散在油中,另一種是油分散在水中。常見(jiàn)的乳劑制品有牛奶(水包油型)和黃油(油包水型),加工過(guò)程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長(zhǎng)保質(zhì)期。

       9食品

       食品的原料(粉末及液體)通常來(lái)源于不同的加工廠,不同來(lái)源的原料必須滿足某些特定的標(biāo)準(zhǔn)以使zui終制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定。原料性質(zhì)的任何波動(dòng)都會(huì)對(duì)食品的口味和口感產(chǎn)生影響。用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量保證和質(zhì)量控制(QA/QC)的一個(gè)指標(biāo)可確保生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。

       10液體工作介質(zhì)/油

       液體工作介質(zhì)(如:油)越來(lái)越昂貴,延長(zhǎng)液體介質(zhì)的壽命是目前普遍關(guān)心的問(wèn)題。機(jī)械設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中(如:油浴潤(rùn)滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì)),因此需要一種方法來(lái)確定介質(zhì)(油)的更換周期。通過(guò)監(jiān)測(cè)工作介質(zhì)(油)中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長(zhǎng)其使用壽命。

      11墨水

       隨著打印機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展,打印機(jī)用的墨水變得越來(lái)越重要。噴墨打印機(jī)墨水的粒度應(yīng)當(dāng)控制在一定的尺度以下,且分布均勻,大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量。墨水是通過(guò)研磨方法制得的,可用粒度檢測(cè)分析儀器設(shè)備監(jiān)測(cè)其研磨加工過(guò)程,以保證墨水的顆粒粒度分布均勻,避免產(chǎn)生聚集的大顆粒。

      12 膠束

       膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過(guò)某一臨界值后,其分子或離子自動(dòng)締合而成的膠體尺度大小的聚集體質(zhì)點(diǎn)微粒,這種膠體質(zhì)點(diǎn)與離子之間處于平衡狀態(tài)。

       乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質(zhì)大分、二氧化硅以及自組裝TiO_2納米管(TNAs)等

 

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