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環(huán)保APP正式上線

PPC等離子去膠機(jī) 等離子清洗機(jī)

參考價(jià) 1000
訂貨量 ≥1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱邁可諾技術(shù)有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號(hào)PPC973
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 更新時(shí)間2022/10/15 9:35:07
  • 訪問次數(shù)629
產(chǎn)品標(biāo)簽:

等離子清洗機(jī)

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 邁可諾公司全稱“邁可諾技術(shù)有限公司”,英文簡稱“MYCRO”。這是一家富有創(chuàng)新精神的化高科技公司,專業(yè)提供光電半導(dǎo)體化工實(shí)驗(yàn)室所需設(shè)備耗材的全套解決方案提供商,公司網(wǎng)址為 ?! ∽鳛楣I(yè)實(shí)驗(yàn)室市場領(lǐng)域的,邁可諾從事開發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)并營銷質(zhì)量可靠的、安全易用的技術(shù)產(chǎn)品及優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務(wù),幫助客戶和合作伙伴取得成功?! ∵~可諾成功的基礎(chǔ)是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協(xié)助他們實(shí)現(xiàn)高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。

主營產(chǎn)品:勻膠機(jī),旋涂儀,甩膠臺(tái),勻膠臺(tái),涂層機(jī),涂膠機(jī),涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂敷儀, HPC,PPC, PAC,SCE系列等離子清洗機(jī), Cargille光學(xué)試劑,光刻機(jī)/曝光機(jī),壓力機(jī), 壓片機(jī), 熱壓機(jī),WABASH熱壓機(jī), CARVER熱壓機(jī),LAURELL勻膠機(jī)、HOT PLATE熱板 烤膠機(jī)
Laurell勻膠機(jī)
 Harrick等離子清洗機(jī)
 Carver手動(dòng)壓片機(jī)
 Uvitron紫外固化箱
 Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
 Wenesco/EMS/Unitemp加熱板
 Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)
 NXQ光刻機(jī)
 Anatech等離子系統(tǒng)
 Wabash/Carver自動(dòng)壓片機(jī)

光學(xué)試劑,勻膠機(jī),等離子清洗機(jī),熱板,光刻機(jī),壓片機(jī)
頻率頻射 2.45GHz
PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統(tǒng)是一臺(tái)臺(tái)式微波等離子清洗機(jī)設(shè)備。等離子清洗機(jī)系統(tǒng)融合了下面的特點(diǎn),并在眾多的應(yīng)用領(lǐng)域中得到肯定。
PPC等離子去膠機(jī) 等離子清洗機(jī) 產(chǎn)品信息

PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統(tǒng)是一臺(tái)臺(tái)式微波等離子清洗機(jī)設(shè)備。等離子清洗機(jī)系統(tǒng)融合了下面的特點(diǎn),并在眾多的應(yīng)用領(lǐng)域中得到肯定。

產(chǎn)品特色

負(fù)載循環(huán)控制,模擬功率控制

處理機(jī)存儲(chǔ)

水冷底座

減少污水排放

安全保護(hù)設(shè)計(jì)

操作簡便 維護(hù)方便

應(yīng)用范圍:

混合電路板制造中基片的清洗

打線工藝前清洗電子部件,提高其可靠性

錫焊或焊接工藝前,關(guān)鍵性鍍金部件的清洗

清洗半導(dǎo)體元器件

光刻膠去膠

上膠、印刷和其它表面浸濕操作的表面準(zhǔn)備

鍍膜前對(duì)光學(xué)器件清洗

清洗石英、藍(lán)寶石及其它材料

適用工藝:

打線墊清洗、減少金屬氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片墊;

去除光刻膠、塑料表面上膠處理、去除油漬或是環(huán)氧殘留物;

清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光學(xué)部件、清洗半導(dǎo)體表面、清洗鍍銀部件;

塑膠密封劑去除--失效模式分析

型號(hào)

PPC862

PPC973

反應(yīng)艙尺寸(H*W*D)

203mm x 152 mm x 50mm

229 x 178 x 76 mm

冷卻面(H*W)

203 mm x 152 mm

229 mm x 178 mm

反應(yīng)艙

方形艙體

方形艙體

反應(yīng)艙材質(zhì)

派熱克斯玻璃&鋁材

派熱克斯玻璃&鋁材

水冷式

水冷裝置

水冷裝置

負(fù)載比

10%至連續(xù)性

10%至連續(xù)性

標(biāo)準(zhǔn)流量

5cu-ft./Hr.@STP

5cu-ft./Hr.@STP

頻率(GHz)

2.45 GHz

2.45 GHz

功率(Watts)

100750之間調(diào)節(jié)

100750之間調(diào)節(jié)

重量 (Kg)

29.5kg

38.5kg

真空泵系統(tǒng)

抽氣速率3.8cfm/

抽氣速率3.8cfm/

產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 微波等離子清洗機(jī) 2.45GHz等離子清洗機(jī) 等離子去膠機(jī) 等離子清洗機(jī) 等離子刻蝕機(jī)
15700106413
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