制藥廠廢氣處理設(shè)備從理論上講，只要半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對(duì)特定反應(yīng)有突出優(yōu)點(diǎn)，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導(dǎo)體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對(duì)而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

原理：將有臭味地氣體通過煙囪排至大氣，或用無臭空氣稀釋，降低惡臭物質(zhì)濃度以減少臭味。適用范圍：適用于處理中、低濃度的有組織排放的惡臭氣體。優(yōu)點(diǎn)：費(fèi)用低、設(shè)備簡(jiǎn)單。缺點(diǎn)：易受氣象條件限制，惡臭物質(zhì)依然存在。

制藥廠廢氣處理設(shè)備

利用臭氣中某些物質(zhì)易溶于水的特性，使臭氣成分直接與水接觸，從而溶解于水達(dá)到脫臭目的。適用范圍：水溶性、有組織排放源的惡臭氣體。優(yōu)點(diǎn)：工藝簡(jiǎn)單，管理方便，設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用低 產(chǎn)生二次污染，需對(duì)洗滌液進(jìn)行處理。缺點(diǎn)：凈化效率低，應(yīng)與其他技術(shù)聯(lián)合使用，對(duì)硫醇，脂肪酸等處理效果差。

將惡臭物質(zhì)以曝氣形式分散到含活性污泥的混和液中，通過懸浮生長的微生物降解惡臭物質(zhì) 適用范圍廣。優(yōu)點(diǎn)：活性污泥經(jīng)過馴化后，對(duì)不超過極限負(fù)荷量的惡臭成分，去除率可達(dá)99.5%以上。缺點(diǎn)：受到曝氣強(qiáng)度的限制，該法的應(yīng)用還有一定局限。

反應(yīng)塔內(nèi)裝填特制的固態(tài)填料，填料內(nèi)部復(fù)配多介質(zhì)催化劑。當(dāng)惡臭氣體在引風(fēng)機(jī)的作用下穿過填料層，與通過特制噴嘴呈發(fā)散霧狀噴出的液相復(fù)配氧化劑在固相填料表面充分接觸，并在多介質(zhì)催化劑的催化作用下，惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍：適用范圍廣，尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣，對(duì)疏水性污染物質(zhì)有很好的去除率。優(yōu)點(diǎn)：占地小，投資低，運(yùn)行成本低；管理方便，即開即用。缺點(diǎn)：耐沖擊負(fù)荷，不易污染物濃度及溫度變化影響，需消耗一定量的藥劑。

低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的著火電壓時(shí)，氣體分子被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。

低溫等離子體空氣凈化設(shè)備能夠顯著治理的污染有：VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵，也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術(shù)是一種全新的凈化過程，不需要任何添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣，不會(huì)導(dǎo)致二次污染。

1、生物濾池除臭系列

特點(diǎn)：

① 不需要高成本的化學(xué)藥劑，運(yùn)行穩(wěn)定，耐腐蝕，耐負(fù)荷沖擊能力大。

② 針對(duì)特定有害氣體成份馴化適當(dāng)?shù)奈⑸铮岣邌挝蝗莘e的負(fù)荷率。

③ 填料采用有機(jī)無機(jī)混合填料，比表面積大，孔隙率高，并可為微生物

提供營養(yǎng)，可支撐大量不同種群微生物群。

④ 填料活性介質(zhì)的損失小、可減少能耗，降低運(yùn)行費(fèi)用。

⑤ 采用強(qiáng)化自然生物降解污染物，無二次污染物產(chǎn)生。

⑥ VOC去除率高，對(duì)H2S的去除率可達(dá)99%。

⑦ PLC控制系統(tǒng)自動(dòng)運(yùn)行，無需人員管理。